CCI HD非接觸式白光干涉輪廓儀基礎(chǔ)測量：提供尺寸和粗糙度測量功能。

膜厚測量：支持兩種類型的膜厚測量，涵蓋厚膜和薄膜涂層：

厚膜測量：可研究厚度至約 1.5 微米的半透明涂料，測量限制取決于材料的折射率和標(biāo)的物的 NA。

薄膜測量：能測量厚度至 50 納米的薄膜涂層（同樣取決于折射率），且通過干涉測量法，可在單次測量中同時研究膜厚、界面粗糙度、針孔缺陷以及薄涂層表面的剝離等特性。

技術(shù)特點

采用享有優(yōu)勢的新型關(guān)聯(lián)算法，用于查找由精密光學(xué)掃描裝置產(chǎn)生的干涉圖的相干峰和相位，整合了非接觸式尺寸測量功能和良好的厚薄膜測量技術(shù)，能應(yīng)對薄膜涂層測量難度更高的挑戰(zhàn)。